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南京舜儀實驗設備有限公司是由南京和同創業科技有限責任公司變更而來，擁有“舜儀”和“SAINTINS”等注冊商標。公司致力于等離子體相關產品的開發，目前主要生產小型離子濺射和小型磁控濺射，獲得客戶廣泛認可。隨著對行業的不斷深入，期待能夠推出更多質優價廉的設備，為我們的儀器行業添磚加瓦。我們追求的目標是為用戶提供滿意的產品及服務，以重諾守信，嚴謹求實，目光遠大的行為為準則?！八粗罚瑑x之質”，對于新老客戶，我們將一如既往,恪守“服務至上”的承諾，與用戶保持長期的合作，為用戶提供放心的，滿意的的產品。我們將憑借高效、高質的服務，高信任度的企業形象與廣大用戶共同發展！由于（北京和同創業科技有限責任公司）的業務調整，原有的產品將逐漸由（南京舜儀實驗設備有限公司）承接，所有服務和承諾不變。

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技術文章

Technical articles

2026
1-21

薄膜制備小型磁控濺射儀的結構組成及特性分析
薄膜制備技術在現代材料科學和工程中占據著重要地位，尤其是在電子器件、光電器件及傳感器等領域。磁控濺射是一種廣泛應用于薄膜制備的物理氣相沉積（PVD）方法，其優點...
2025
12-17

小功率冷卻水循環機的結構組成及常見應用
小功率冷卻水循環機是一種在實驗室、工業和商業應用中廣泛使用的設備。它的主要功能是提供穩定的冷卻水流，以維持設備或實驗的溫度，確保其正常運行。基本工作原理是通過壓...
2025
11-20

光纖鍍膜小型離子濺射儀的主要組成部分及其應用
光纖鍍膜小型離子濺射儀是一種專用于光纖表面涂層和薄膜沉積的設備，廣泛應用于光電子、通訊、光學、半導體等領域。離子濺射技術利用高能離子轟擊靶材，通過濺射效應使靶材...
2025
10-23

薄膜制備小型磁控濺射儀的具體工作過程分析
薄膜制備小型磁控濺射儀是一種利用磁控濺射技術進行薄膜制備的實驗室設備。磁控濺射技術是一種常用的物理氣相沉積（PVD）方法，通過高能粒子撞擊靶材，將靶材原子或分子...
2025
9-17

薄膜制備小型磁控濺射儀的工作原理及設計要點
磁控濺射是利用磁場增強的濺射效應來制備薄膜的一種物理氣相沉積（PVD）方法。其基本原理是通過電場將離子加速，撞擊靶材表面，導致靶材原子或分子濺射出來，并沉積到基...
2025
8-20

低溫濺射小型磁控濺射儀的操作注意事項
低溫濺射小型磁控濺射儀是一種物理氣相沉積（PVD）技術，利用高能粒子轟擊靶材（一般是金屬或合金）表面，使靶材原子脫離并在基底表面沉積成薄膜。磁控濺射是在傳統濺射...
2025
7-16

桌面型小型離子濺射儀：高效薄膜沉積的新選擇
離子濺射是一種基于離子與固體表面碰撞的物理過程。當高能離子（如氬離子）轟擊靶材表面時，靶材中的原子或分子受到沖擊力從表面彈出，產生濺射效應。濺射出的原子或分子會...
2025
6-17

冷濺射小型磁控濺射儀具有良好的濺射過程控制能力
冷濺射小型磁控濺射儀是一種用于薄膜材料沉積的設備，廣泛應用于材料科學、半導體工業、光電器件制造等領域。具有高精度、高沉積速率、低溫沉積等優點，并能夠在不加熱基材...